从应用结构来看，半导体芯片和平板显示是掩膜版主要的两大应用领域，其中由于在半导体芯片领域，掩膜版是芯片制造过程中的图形 底片 ，用于转移高精密电路设计，承载了图形设计和工艺技术等知识产权信息，因此广泛应用于芯片生产，故而市场应用份额占比最大，超过了 75%。

　　掩膜版 ( Photomask ) ◆★■◆★◆，又称光罩、光掩膜、光刻掩膜版等，是微电子制造中光刻工艺所使用的图形母版★◆■，由不透明的遮光薄膜在透明基板上形成掩膜图形，并通过曝光将图形转印到产品基板上。掩模版多用于芯片和平板显示的批量生产，是下游生产流程衔接的关键部分。2023 年全球掩膜版行业市场规模超 500 亿元，近五年行业复合增速为 6.73%★★。初步估算，2024 年全球掩膜版行业市场规模进一步增长至约 530 亿元。

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　　全球领先的第三方掩膜版生产企业主要有福尼克斯( PHOTRONICS ) 、PKL、LG-IT 和 DB HITEK 等。这些企业掌握了掩膜版的核心关键技术★★◆★◆，占据行业内领先市场份额。

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